真空管式高温炉

真空管式高温炉价格，真空管式炉 1100℃详细介绍：具有合理的性能设计，集多项功能于一身，实用性均达理想效果。
1、高温度1100℃，加热区为300mm。
2、真空管式高温炉价格炉体采用双层炉壳结构，双层炉壳之间装有风机，可以升降温，炉壳表面温度低。
3、炉管采用高纯石英管、两端采用SUS304高真空法兰密封。
4、炉膛材料采用的进口氧化铝多晶纤维真空吸附制成，节能50%，加热炉膛由上下两部分组成，其中上部分炉膛可整体向后翻转110℃，方便取放实验物料、更换炉管。加热元件采用瑞典康泰尔电阻丝。
5、电炉温度控制系统采用人工智能调节技术，仪表控制精度为±1℃，具有PID调节、模糊控制、自整定能力并可编制各种升温程序，具有*高温报警功能，具有热电偶损坏断电功能，具有内置参数密码控制功能。
6、升温速度大≤30℃/min（建议升温速度≤10℃/min），可编写30段自动升温程序，可控硅控制，配备数显LED电压表、电流表,选用K型热电偶。
7、可选配RS-485通讯接口，数据管理软件，具有无纸记录历史数据和升温曲线，校正温度偏离误差的功能，可以管理多台设备和远程故障诊断分析。
8、多种防护设计，性能好，使用寿命长。
   温区真空气氛管式炉以硅碳棒为发热元件；双层风冷结构；高纯氧化铝纤维真空吸附一次成型；高密度硅碳棒真空挤压成型；刚玉管外径为60、80mm。三个温区分别由三个立的温控系统来控制且都为PID30段程序化控温。可通过调节三个温区的控温程序使炉管内温场形成一温度梯度，炉管两端装有不锈钢法兰，不锈钢法兰上安装有气嘴、阀门和压力表，抽真空时真空度能够达到10-3 Pa,此系列真空气氛管式炉可以用CVD或PVD方法来生长纳米材料和制作各种薄膜。