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开启式管式炉系统 高真空炉

简要描述:开启式管式炉系统 高真空炉,由开启式管式炉、高真空分子泵系统、射频电源系统及多通道高精度数字质量流量控制系统组成,是实验室生长薄膜石墨烯,金属薄膜,陶瓷薄膜,复合薄膜等的理想选择。

  • 产品型号:
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2019-11-17
  • 访  问  量:92
  • 产品简介

开启式管式炉系统

在真空压力下,加在电感线圈的射频电场,使反应室气体发生辉光放电,在辉光发电区域产生大量的电子。这些电子在电场的作用下获得充足的能量,其本身温度很高,它与气体分子相碰撞,使气体分子活化。它们吸附在衬底上,并发生化学反应生成介质膜,副产物从衬底上解吸,随主气流由真空泵抽走,称为等离子体增强化学气相沉(PECVD)。

PECVD开启式管式炉系统由开启式管式炉、高真空分子泵系统、射频电源系统及多通道高精度数字质量流量控制系统组成,是实验室生长薄膜石墨烯,金属薄膜,陶瓷薄膜,复合薄膜等的理想选择。

 

开启式管式炉系统主要功能和特点:

1、PECVD具有基本温度低、沉积速率快、成膜质量好、针孔较少、不易龟裂等;

2、PECVD工艺中由于等离子体中高速运动的电子撞击到中性的反应气体分子,就会使中性反应气体分子变成碎片或处于激活的状态容易发生反应;

3、借助射频等使含有薄膜组成原子的气体,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜;

4、高真空系统由双级旋片真空泵和分子泵组成,高真空可达0.001Pa;

5、数字质量流量控制系统是由多路质量流量计,流量显示仪等组成,实现气体的流量的精密测量和控制;

6、每条气体管路均配备高压逆止阀,保证系统的安全性和连续均匀性;

7、采用KF快速法兰密封,装卸方便快捷;

8、管路采用世界*Swagelok卡套连接,不漏气;

9、超温、过压时,自动切断加热电源及流量计进气,使用安全可靠。

 

开启式管式炉系统 主要用途:

高校、科研院所用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备,生长薄膜石墨烯,金属薄膜,陶瓷薄膜,复合薄膜等,也可作为扩展等离子清洗刻蚀使用。

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